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挑战：制造整体尺寸精细到毫米，与此同时包含几十纳米的精细结构，同时能保持优等的光表面质量。解决方案：系统能在不受限的工作区域内进行精确定位（1nm），来完成无拼接偏差的毫米结构制造。低粗糙度的内部表层以...

挑战：

制造整体尺寸精细到毫米，与此同时包含几十纳米的精细结构，同时能保持优等的光表面质量。

解决方案：

系统能在不受限的工作区域内进行精确定位（1nm），来完成无拼接偏差的毫米结构制造。低粗糙度的内部表层以及低的收缩比能保证在较大表层加工后光表面质量。

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